2015•Nanoindustry RussiaOpen access
Nanodevice fabrication technologies with advanced high resolution electron beam lithography systems
Mayuko Shibata, Tsutomu Obata, H. Ohyi
Open full text 0 citations
Abstract
Электронно-лучевая литография (ЭЛЛ) широко применяется в производстве наноразмерных устройств.Японская корпорация Crestec разработала модель CABL-UH -систему ЭЛЛ высокого разрешения с ускоряющим напряжением 130 кВ.В статье рассматриваются концепция, характеристики и потенциальные области применения этой системы.Electron beam lithography (EBL) systems are widely utilized in a nanodevice fabrication.Crestec Corporation developed a high resolution EBL system, CABL-UH with a 130 kilovolts high acceleration voltage.The machine concept, specification and writing performance of the system and potential applications are discussed in this article. Оборудование для наноиндустрии
Open-access reader