TiO 2 광촉매를 이용한 Chloroform 분해
라덕관, 정상철, 채현미
Abstract
라덕관, 정상철, 채현미
Abstract
정수처리 공정에서 소독 부산물로서 생성되는 THM 성분 중 chloroform의 제거에 TiO2 광촉매 반응을 적용하였다. TiO2 광촉매에 조사되는 자외선 파장 변화에 따른 chloroform의 제거율은 반응시간 1시간에 UV-C에서 49.6%, UV-B에서 47.6%, UV-A에서 34.8%로 나타났다. 또한 TiO2 광촉매에 의한 순수한 chloroform의 제거율은 UV-A 파장에서 6.3%로 나타났다. Chloroform 초기농도 1mg/L, 10mg/L, 100mg/L에서 제거율은 각각 40.6%, 34.8%, 31.7%로 나타났다. pH 변화에 따른 chloroform의 제거율은 pH가 3, 5, 7, 9, 11에서 각각 25.4%, 33.1%, 34.8%, 40.6%, 46.7%로 나타났다. 따라서 pH 변화에 따른 chloroform의 제거율은 알칼리성이 강할수록 증가하는 경향을 보이고 있다. 온도 변화에 따른 chloroform의 제거율은 온도 10℃, 20℃, 30℃에서 각각 31.8%, 34.8%. 37.7%나타났다. 이것은 광촉매 반응이 광에 의한 활성화 과정이기 때문에 원칙적으로 승온을 필요로 하지 않고 상온에서 수행될 수 있기 때문이다. Chloroform 10mg/L 수용액에 과산화수소를 0mg/L, 50mg/L, 300mg/L, 500mg/L 주입하였을 경우 chloroform 제거율은 각각 34.8%, 41.8%, 31.5%, 30.4%로서 나타났다. 따라서 본 실험의 경우 과산화수소 50mg/L 주입했을 때의 chloroform의 제거율이 가장 높게 나타났다.
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정수처리 공정에서 소독 부산물로서 생성되는 THM 성분 중 chloroform의 제거에 TiO2 광촉매 반응을 적용하였다. TiO2 광촉매에 조사되는 자외선 파장 변화에 따른 chloroform의 제거율은 반응시간 1시간에 UV-C에서 49.6%, UV-B에서 47.6%, UV-A에서 34.8%로 나타났다. 또한 TiO2 광촉매에 의한 순수한 chloroform의 제거율은 UV-A 파장에서 6.3%로 나타났다. Chloroform 초기농도 1mg/L, 10mg/L, 100mg/L에서 제거율은 각각 40.6%, 34.8%, 31.7%로 나타났다. pH 변화에 따른 chloroform의 제거율은 pH가 3, 5, 7, 9, 11에서 각각 25.4%, 33.1%, 34.8%, 40.6%, 46.7%로 나타났다. 따라서 pH 변화에 따른 chloroform의 제거율은 알칼리성이 강할수록 증가하는 경향을 보이고 있다. 온도 변화에 따른 chloroform의 제거율은 온도 10℃, 20℃, 30℃에서 각각 31.8%, 34.8%. 37.7%나타났다. 이것은 광촉매 반응이 광에 의한 활성화 과정이기 때문에 원칙적으로 승온을 필요로 하지 않고 상온에서 수행될 수 있기 때문이다. Chloroform 10mg/L 수용액에 과산화수소를 0mg/L, 50mg/L, 300mg/L, 500mg/L 주입하였을 경우 chloroform 제거율은 각각 34.8%, 41.8%, 31.5%, 30.4%로서 나타났다. 따라서 본 실험의 경우 과산화수소 50mg/L 주입했을 때의 chloroform의 제거율이 가장 높게 나타났다.
Key concepts: Chloroform, Chemistry, Nuclear chemistry, Chromatography