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1985•ChemInformRequires access

ChemInform Abstract: INFLUENCE OF SUBSTRATE PREPARATION ON THE MORPHOLOGY OF GALLIUM ANTIMONIDE FILMS GROWN BY MOLECULAR BEAM EPITAXY

Mitsuru Kodama, J Hasegawa, Morihiko Kimata

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Abstract

Abstract Die Morphologie der durch Molekularstrahl‐Epitaxie gewachsenen undotierten GaSb‐Filme hängt stark von der Substratvorbehandlung ab, da sich Störungen der Substratoberfläche auf die Filmoberfläche ausweiten.

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Abstract Die Morphologie der durch Molekularstrahl‐Epitaxie gewachsenen undotierten GaSb‐Filme hängt stark von der Substratvorbehandlung ab, da sich Störungen der Substratoberfläche auf die Filmoberfläche ausweiten.

Key concepts: Gallium antimonide, Molecular beam epitaxy, Antimonide, Materials science, Substrate (aquarium), Epitaxy, Gallium, Morphology (biology)

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