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Ku-대역 BiCMOS 저잡음 증폭기 설계

장동필, 염인복

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Abstract

0.25 ㎛ SiGe BiCMOS 공정을 이용하여 Ku-대역 저잡음 증폭기가 설계 및 제작되었다. 개발된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 BiCMOS 공정의 HBT 소자를 이용하여 설계되었으며, 9~14 ㎓ 대역에서 2.05 ㏈ 이하의 잡음 지수 특성과 19 ㏈ 이상의 이득 특성을 가지고 있다. 제조 공정과 관련되어 제공된 PDK의 부정확성 및 부족한 인덕터 라이브러리를 보완하기 위하여 p-tap 값 최적화와 인덕터의 EM 시뮬레이션 기법 등을 활용하였다. 총 2회의 제작 공정을 수행하였으며, 최종 제작된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 0.65 ㎜×0.55 ㎜의 크기로 구현되었다. 특히 최종 제작된 저잡음 증폭기의 레이아웃에서 입/출력 RF Pad와 Bias Pad 등을 제외하고 약 0.4 ㎜×0.4 ㎜ 정도의 크기를 갖도록 조정되어 다기능 RFIC의 증폭단으로 활용되었다.

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0.25 ㎛ SiGe BiCMOS 공정을 이용하여 Ku-대역 저잡음 증폭기가 설계 및 제작되었다. 개발된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 BiCMOS 공정의 HBT 소자를 이용하여 설계되었으며, 9~14 ㎓ 대역에서 2.05 ㏈ 이하의 잡음 지수 특성과 19 ㏈ 이상의 이득 특성을 가지고 있다. 제조 공정과 관련되어 제공된 PDK의 부정확성 및 부족한 인덕터 라이브러리를 보완하기 위하여 p-tap 값 최적화와 인덕터의 EM 시뮬레이션 기법 등을 활용하였다. 총 2회의 제작 공정을 수행하였으며, 최종 제작된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 0.65 ㎜×0.55 ㎜의 크기로 구현되었다. 특히 최종 제작된 저잡음 증폭기의 레이아웃에서 입/출력 RF Pad와 Bias Pad 등을 제외하고 약 0.4 ㎜×0.4 ㎜ 정도의 크기를 갖도록 조정되어 다기능 RFIC의 증폭단으로 활용되었다.

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Key contribution

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Method / approach

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Main findings

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Limitations

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Applications

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Available abstract

0.25 ㎛ SiGe BiCMOS 공정을 이용하여 Ku-대역 저잡음 증폭기가 설계 및 제작되었다. 개발된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 BiCMOS 공정의 HBT 소자를 이용하여 설계되었으며, 9~14 ㎓ 대역에서 2.05 ㏈ 이하의 잡음 지수 특성과 19 ㏈ 이상의 이득 특성을 가지고 있다. 제조 공정과 관련되어 제공된 PDK의 부정확성 및 부족한 인덕터 라이브러리를 보완하기 위하여 p-tap 값 최적화와 인덕터의 EM 시뮬레이션 기법 등을 활용하였다. 총 2회의 제작 공정을 수행하였으며, 최종 제작된 Ku-대역 저잡음 증폭기는 0.65 ㎜×0.55 ㎜의 크기로 구현되었다. 특히 최종 제작된 저잡음 증폭기의 레이아웃에서 입/출력 RF Pad와 Bias Pad 등을 제외하고 약 0.4 ㎜×0.4 ㎜ 정도의 크기를 갖도록 조정되어 다기능 RFIC의 증폭단으로 활용되었다.

Key concepts: RFIC, BiCMOS, Ku band, Heterojunction bipolar transistor, Electrical engineering, Engineering, Radio frequency, Bipolar junction transistor

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Ku-대역 BiCMOS 저잡음 증폭기 설계 — Research Paper | ScholarLens